Кинетика роста и плазменной деструкции пленок, осаждаемых в тлеющем разряде в метане

С.М. Баринов; А.М. Ефремов

doi:10.18321/

Authors

S.M. Barinov Ivanovo State University of chemistry and technology, F. Engel’sa ave. 7, 153000, Ivanovo
A.M. Efremov Ivanovo State University of chemistry and technology, F. Engel’sa ave. 7, 153000, Ivanovo

DOI:

https://doi.org/10.18321/

Keywords:

growth kinetics, plasma, destruction, discharge, methane

Abstract

The influence of external dc glow discharge parameters (gas pressure, gas flow rate, current density) on the polymer film formation kinetics in methane plasma was investigated. Also, the plasma-assisted destruction kinetics for such films was studies in both Ar and O₂ plasmas.

References

(1). Eddy C.R., Leonhardt D., Douglass S.R. et al. Surface processes in plasma environments // J. Vac. Sci. Technol. A. 1999. Vol. 17. No. 3. P. 780–785.

(2). Kim H.K., Lin H., Ra Y. et al. Thin film deposition study // J. Vac. Sci. Technol. A. 2004. Vol. 22. No. 3. P. 598–602.

(3). Lim W., Voss L., Khanna R., Gila B.P. et al. Plasma surface modification // Appl. Surf. Sci. 2006. Vol. 253. P. 1269–1274.

(4). Cho H., Vartuli C.B., Donovan S.M. et al. Plasma-assisted processes // J. Vac. Sci. Technol. A. 1998. Vol. 16. No. 3. P. 1631–1635.

(5). Иванов Ю.А., Рытова Н.М., Тимакин В.Н., Эпштейн И.Л. Исследование плазмохимических процессов // Химия высоких энергий. 1990. Т. 24. № 6. С. 541–546.

(6). Иванов Ю.А., Рытова Н.М., Солдатова И.В., Тимакин В.Н., Эпштейн И.Л. Плазмохимия-91 // Институт нефтехимического синтеза АН СССР. М., 1991. Т. 1. С. 172–208.

(7). Солдатова И.В., Котенев В.А. Плазмохимические покрытия и их свойства // Физикохимия поверхности и защита материалов. 2012. Т. 48. № 2. С. 159–164.

(8). Малов В.В. Пьезорезонансные датчики. М.: Энергоатомиздат, 1989. 272 с.

(9). Семенова О.А., Ефремов А.М., Баринов С.М., Кучумов А.А., Светцов В.И. Плазмохимические процессы при осаждении пленок // Микроэлектроника. 2013. Т. 42. № 5. С. 375–381.

(10). Семенова О.А., Ефремов А.М., Баринов С.М., Светцов В.И. Высокотемпературные процессы в плазме // Теплофизика высоких температур. 2014. Т. 52. № 2. С. 1–6.

(11). Ясуда Х. Полимеризация в плазме. М.: Мир, 1988. 376 с.

(12). Lieberman M.A., Lichtenberg A.J. Principles of Plasma Discharges and Materials Processing. New York: John Wiley & Sons Inc, 1994. 382 p.

(13). Herrbout D., Bogaerts A., Yan M., Gijbels R., Goedheer W., Dekempeneer E. Modeling of plasma behavior // J. Appl. Phys. 2001. Vol. 90. No. 2. P. 520–525.

(14). Рыбкин В.В., Титов В.А. Энциклопедия низкотемпературной плазмы. Серия Б. Т. VIII-1. С. 130.