Ионное - и ионно-химическое травление пленок металлов в плотной плазме ВЧ индукционного разряда - Амиров, И.И.; Изюмов, М.О.; Наумов, В.В. (Горение и плазмохимия, 2014)
Представлены результаты исследования тонких пленок полученных распылением WTi, Ta, Pt, Al, Cu, Сr и Со в плотной плазме Ar (Еi<150 эВ) ВЧ индукционного разряда низкого давления и в ионно-химическом режиме распыления Co и Cr в Ar/O2 плазме. Полученный набор данных хорошо согласуется с литературными данными.